[더지엠뉴스] 중국 공업정보화부가 자국산 반도체 심자외선(DUV) 노광장비 2종이 중요한 기술적 도약을 이뤘다고 주장했다.

15일 중국 매체에 따르면 공업정보화부는 이번주 발간한 '주요 기술 장비' 신규 목록에서 이같이 강조했다.

중국 정부는 중요한 기술적 도약을 이뤘고 자체 지식재산권을 보유했다면서도, 아직 시장에 나오지는 않았고, 해당 장비 2종의 제작사 이름도 공개하지 않았다.

중국이 개발했다는 2종 DUV 노광장비중 하나는 파장 193나노(㎚, 10억분의 1m)에서 작동하며 해상도 65나노 미만, 오버레이(overlay) 정확도 8나노 미만이다. 다른 하나는 파장 248나노, 해상도 110나노, 오버레이 정확도 25나노다.

노광(Lithography)은 반도체 기판(실리콘 웨이퍼)에 고도로 복잡한 회로 패턴을 새기는 공정이다.